钼溅射靶材

产品介绍

钼具有高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能，使得钼溅射靶材可通过磁控溅射工艺在各类基材上形成钼涂层，这种钼涂层广泛应用于电子部件和电子产品，要求靶材必须符合最严格的质量标准。我们生产的靶材具有以下特点：

超高纯度

靶材的纯度越高，PVD过程中出现异常颗粒的几率越小，溅射薄膜的性能越好。材料中的杂质是沉积薄膜的主要污染源，必须严格控制。我们生产的纯钼靶钼含量不低于99.97%，可充分保证溅射薄膜的品质，从而确保每个像素点均能发挥完美功能。

超高密度

高密度的靶材溅射效率高，可提高单位时间内的溅射面积。我们通过大的轧制变形量，实现钼靶材几乎100%的致密度，密度可达到10.2g/cm³，可极大地避免固体中的气孔突然释放造成的微粒飞溅，从而提高薄膜品质。

细小且均匀的晶粒度

对于同一种靶材，晶粒细小的溅射速率更快，晶粒分布均匀的溅射靶材沉积的薄膜厚度更均匀。我们通过特殊工艺生产的靶材晶粒度细小且均匀。

广泛的靶材种类选择

我们可为您提供的钼溅射靶材有很多种类，按形状可分为钼方靶，钼条靶和钼管靶。按材质分类可分为纯钼靶和钼合金靶。

在钼中添加Nb、Ni、Ti等合金元素后的溅射靶材，比用纯钼靶材所镀膜层具有更好的耐腐蚀性及膜附着力，从而可以提高平板显示电子产品的使用寿命、使用可靠性及用户体验度。随着平板显示器在显示领域的日渐普及以及用户对产品要求的提高，钼合金靶材作为一种新型的溅射靶材，正在逐步替代传统的纯钼靶材，用量也在日益增加，特别是对高纯度、高致密度、大尺寸钼合金靶材的需求增加更快。安泰天龙通过数年的研究开发工作，自主开发了满足高端用户需求的钼合金靶材，已获多项国家发明专利，具有完全自主知识产权。

钼溅射靶材产品图片

产品应用

钼溅射靶材的应用主要集中在平面显示器、CIGS太阳能电池电极和布线材料以及半导体阻挡层材料等方面，基于钼材料的高熔点、高电导率、低比阻抗、良好的耐腐蚀性和环保性能，可以大大提高显示器的亮度、对比度、色彩和寿命等性能。

钼溅射靶材产品图片

产品规格

钼溅射靶材产品代系划分依据玻璃基板尺寸划分而来，板靶产品根据形状可分为方形和条形两类。受制于制备水平，G6及以下靶材产品多为方形形状，G6以上产品多为条形或管形，然后使用拼接工艺拼接后进行使用。

安泰天龙可提供全世代线(G3-G10.5)的靶材，装备有难熔金属领域的先进超大型轧机- 2100mm单机架四辊可逆热轧机，可以生产目前平板显示市场需要的尺寸最大的G6大方靶和G10.5长条靶以及G8.6旋转靶。

主要世代面板尺寸及所需钼靶材规格

世代	玻璃尺寸/mm	切割尺寸/英寸	片数/片	靶材尺寸/mm	靶材类型
G3	550*650	15	4	95086016	钼方靶
G4	680*880	15	6	980115010	钼方靶
G5	1100*1300	27	6	1700143112	钼方靶
G5.5	1300*1500	27	8	1950158014	钼方靶
G6	1500*1850	32	8	2300180014	钼方靶
G6	1500*1850	37	6	230019516	钼条靶
G8.5	2200*2500	55	6	265021018	钼条靶
G8.6	2250*2600	58	6	OD167.2ID135.12692	钼旋转靶
G10.5	2940*3370	65	8	343020018	钼条靶